概需要经过2个步骤，分别是芯片设计和芯片制造。

　　打造一款芯片就像是建造一栋大楼，而芯片设计就像给大楼设计建筑图纸。

　　美利坚在芯片设计领域，占据了绝对优势。

　　他们的半导体产业起步最早，世界上第一块芯片就是他们制造出来的。

　　芯片是半导体产业的产品，半导体是用来做芯片的材料。

　　这个行业，通俗一点，就叫芯片行业，学术一点就叫半导体行业，实际上相当于土豆和马铃薯的区别。

　　仅仅设计出芯片，还是远远不够的，他还需要用光刻机在芯片上进行雕刻。

　　光刻机就相当于雕刻用的“笔”。

　　而世界上，只有3个国家有能力制造出光刻机，其中能制造出高端光刻机的，只有岛国和荷兰。

　　岛国的国土面积虽然不大，却掌握着强大的科技实力和工业基础。

　　在八十年代，岛国的光刻机是全世界最先进的。

　　那个时候，尼康、佳能公司也能生产光刻机，曾一度占领行业50%以上的份额，包括IBM、英特尔、德州仪器在内的大客户，无一不争相抢购他们的光刻机。

　　然而，由于这两家公司的一个失误，导致岛国将光刻机巨头的皇冠，拱手让给了荷兰的ASML。

　　ASML从2000年左右开始研发EUV光刻机，并决定大规模量产。

　　彼时，岛国光刻机企业却认为系统太过复杂，并未选择跟进。

　　那个时候的ASML还是一家小公司，面对岛国制霸光刻机市场，他们决定以小博大，弯道超车，试一试台积电，林本坚提出的“浸入式光刻机技术”。

　　这个技术，你听起来觉得很高端，实际上是一种非常简单的技术，简单到陈伟东第一次听说的时候，还以为自己听错了。

　　所以他对这件事情印象深刻。

　　浸入式光刻技术，就是在光刻镜头，与待刻的硅晶片之间，充满液体，就可以大幅度提高光刻机的加工精度！

　　陈伟东将这项“技术”，告诉了克鲁格教授。

　　最近这些天，他在实验中将那台从树屋研究所带回来的光刻机，精度一百九十纳米的光刻机，成功刻制出了一百零五纳米的密集图形！

　　这一结果让他欣喜若狂！

　　几近失态！

　　通常的光刻机，在光刻镜头与硅晶圆之间，没有任何遮挡。

　　当然，从另一个角度来说，它们之间，存在的是空气。

　　浸入式的思路，就是用液体来替换掉中间的空气。

　　由于液体具有折光率，所以当紫外线通过液体介质之后，它的光源波长就会缩短，从而起到精微刻制的作用。

　　本来他们还觉得有些老旧的光刻机，突然摇身一变，成为了一百零五纳米的光刻机，远远的超过了现有的光刻技术！

　　其实这个浸入式光刻技术，并不算ASML首创。

　　早在80年代初，就有科学家采用浸入技术，成功提高了光刻效果。

　　然而，这项技术，它的液体很容易污染光学镜片。

　　所以这个这个时期的主流光刻技术研究，只是将其作为一个过渡手段，并没有起到足够的重视。

　　一旦下一代光刻技术成熟，便会毫不犹豫的抛弃浸入式光刻。

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